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CD-SEM-Messtechnik-Tool für Fotomasken

02. Dezember 2010 - Advantest stellt ein neues SEM-basiertes CD-Messsystem (Critical Dimension) für Fotomasken der nächsten Generation und Patterned Media vor. Das E3630 ist voll kompatibel zum bestehenden CD-SEM-Messsystem E3610/E3620 von Advantest, bietet aber eine um 30 % bessere Wiederholbarkeit bei der Linienbreite.

Da Halbleiterbauteile immer kleiner werden, wird für die Strukturierung von Fotomasken eine immer genauere und stabilere Messtechnik benötigt. Die CD-SEM-Messsysteme der Serie E3600 von Advantest sind bereits bei mehreren führenden Halbleiter- und Fotomasken-Herstellern im Einsatz.

Das E3630 zeichnet sich durch ein neu entwickeltes Objektiv und eine extrem vibrationsarme Plattform aus, wodurch gegenüber dem Modell E3610/E3620 eine um 30% höhere Wiederholbarkeit bei der Linienbreite erreicht wird. Durch diese bislang unerreichte Leistungsfähigkeit ist das E3630 ideal für CD-Messungen (Critical Dimension) der sehr kleinen Strukturen auf den Fotomasken speziell im Bereich der EUV- (extremes Ultraviolett) und Nanoimprint-Lithographie geeignet. Das Tool ist damit optimal für die Fotomaskenentwicklung und für Fertigungsuntersuchungen bei 22nm und 16nm Produktionsprozessen geeignet.

Das E3630 ist kompatibel zu den bestehenden CD-SEM-Systemen von Advantest, so dass die Anwender vorhandene Software weiter nutzen können.