Überprüfung von Fotomasken der nächsten Generation auf Maskenfehler

23. November 2012 - Advantest hat ein neues Messsystem für Maskenfehler entwickelt, das Mask DR-SEM E5610, welches ultrakleine Fehler bei Fotomasken erkennen und klassifizieren kann. Das E5610 nutzt die von Advantest entwickelte sehr stabile, vollautomatische Multi-Vision-SEM (Scanning Electron Microscope) Bilderfassungstechnologie für Fotomasken.

Es verfügt zudem über einen neu entwickelten Strahl-Kipp-Mechanismus, der ein Scannen unter schrägen Winkeln erlaubt. Durch die hochgenaue Fehlerüberprüfung mit hohem Durchsatz ermöglicht das E5610 Verbesserungen in der Produktqualität und kürzere Durchlaufzeiten in der Fertigung von Fotomasken der nächsten Generation.

Fotomasken-Fertigungsprozesse erfordern eine 100%ige Vermeidung von Fehlern, die sich nachteilig auf die Fertigungsausbeute auswirken, sowie eine gleichzeitige Reduzierung der Durchlaufzeiten. Das neue E5610 System von Advantest ist eine unentbehrliche Lösung für Maskenhersteller, da die schnelle und genaue Technologie beide Anforderungen erfüllt sowie eine Klassifizierung der Fehler erlaubt und abhängig vom Fehlertyp eine geeignete Reparaturlösung vorschlägt.