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Advantest vertreibt CD-SEM-Messsystem für Fotomasken

08. Januar 2010 - Advantest Europe GmbH stellt mit dem E3610/E3620 ein neues SEM-basiertes CD-Messsystem (Critical Dimension) für Fotomasken vor. Die seit 2004 für einen führenden Anbieter von Messtechnik auf OEM-Basis hergestellten Masken-Messsysteme ergänzen ab sofort die Produktpalette von Advantest. Die CD-SEM-Systeme erlauben eine kontinuierliche Verbesserung der Fertigungsausbeute bei 65nm und 45nm Fertigungstechnologien und unterstützen im 32nm Entwicklungsprozess. Durch die stetige Miniaturisierung bei den Halbleiterbauteilen steigen die Herausforderungen bei der Strukturierung von Fotomasken mittels Lithographie. Die Bauteilhersteller benötigen daher eine leistungsfähige Wafer-Level-CD-Messtechnik zur Vermessung der Strukturbreiten. Das CD-SEM-Messsystem E3610/E3620 - welches bereits bei mehreren führenden Halbleiter- und Fotomaskenherstellern im Einsatz ist, erlaubt eine äußerst genaue Vermessung der Strukturbreiten, unterstützt damit die IC-Produktion sowie das Design bis hin zu Strukturbreiten von kleiner/gleich 32 nm. Die derzeit anlaufende Entwicklung von 22nm Fertigungstechnologien erfordert eine noch höhere Präzision und Stabilität.

Das E3610/E3620 nutzt das einzigartige Electron Optical Column Design von Advantest, welches eine genaue CD-(Critical-Dimension) Überwachung erlaubt. Durch seine ausgezeichnete Messgenauigkeit, Langzeit-Stabilität, hohe Wiederholbarkeit und extrem geringen CD-Abweichungen von weniger als ±1nm ist das E3610/E3620 das führende Messtechnik-System für diesen Anwendungsbereich. Das CD-SEM Messsystem wird direkt von Advantest hergestellt, vertrieben und über die weltweite Support-Infrastruktur des Unternehmens unterstützt.

www.advantest.co.jp/products/en-index.shtml